レポート
Vol.(5), No.(1), Year(2016)
This report is either the proceedings of the academic meeting which the Symbio Community Forum had conducted, or the academic report writtenby or introduced by member(s) of Symbio Community Forum, for the which the president of Symbio Community Forum admitted to publish as it contains socially useful information from the purpose of the Forum's activity.
この報告はシンビオ社会研究会が開催した学術会合の議事録、もしくはシンビオ社会研究会の会員の執筆ないし紹介によるもので、シンビオ社会研究会の会長が本会の活動趣旨に沿った社会的に有用な情報を含む”学術報告”として認めて掲載するものです。
This report is either the proceedings of the academic meeting which the Symbio Community Forum had conducted, or the academic report writtenby or introduced by member(s) of Symbio Community Forum, for the which the president of Symbio Community Forum admitted to publish as it contains socially useful information from the purpose of the Forum's activity.
この報告はシンビオ社会研究会が開催した学術会合の議事録、もしくはシンビオ社会研究会の会員の執筆ないし紹介によるもので、シンビオ社会研究会の会長が本会の活動趣旨に沿った社会的に有用な情報を含む”学術報告”として認めて掲載するものです。
| Title: | 平成２８年度第１回シンビオ講演会 |
| Time: | 平成２８年４月２８日（木）１６：３０～１７：３０ |
| Place: | 京都大学百周年時計台記念館２階会議室Ⅲ |
| Program: | PDF File |
| Report: | PDF File |
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 LSIの開発競争とEUV光源の開発研究
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| Authors: |
大西 正視 氏
関西大学先端科学技術推進機構研究員 |
| Summary: | 10nm以下のゲート長を持つトランジスターによる次世代LSIの製造には、リソグラフィプロセスにおいて極端紫外光（EUV）が不可欠である。EUV光源の研究開発にあたり、平成25-27年の3年間、文部科学省「大学発新産業創出拠点プロジェクト」の支援を受けた。講演では、半導体開発の経緯、リソグラフィに利用するEUV光源の開発の現状、文科省本プロジェクトで行ったマイクロ波を用いたXeプラズマ生成によるEUV生成研究の成果および今後の展望について述べられた。 |
| Presentation: | PDF File |
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